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Product catalog

  • 2024
    6.3

    激光干涉仪是如何测量位移的?

    激光干涉仪是如何测量位移的?激光干涉仪是一种广泛应用于科学研究、工业制造和精密测量领域的仪器。在科学研究领域,激光干涉仪广泛应用于物理学、化学和生物学等多个学科,为研究人员提供了强大的工具。在工业制造中,激光干涉仪在精密加工、质量控制和自动化生产中发挥着关键作用。激光干涉仪的基本原理是利用激光的干涉效应进行测量和分析。在国际上,有多种常用的激光干涉仪技术,如迈克尔逊干涉仪、法布里-珀罗gan涉仪和雅各比干涉仪等。它们在不同领域展现出性能和应用潜力。法布里-珀罗gan涉仪是一种...

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  • 2024
    6.3

    Lumencor固态光源在材料科学中的应用

    Lumencor固态光源在材料科学中的应用农业及食品检测AgricultureandFoodInspection检查食品、饮料及其相关包装需要具备获取和处理图像的能力,以获得有关尺寸、形状、颜色、缺陷和完整性等参数的信息。为此,关键是优化照明强度,均匀性和几何形状,以获得具有良好的对比度和信噪比的显微图像。此外,有机和无机材料的光吸收特性各不相同,这使得为这些应用选择合适的照明波长成为一项挑战。食品在包装之前,必须经过种植和收获。当然,光是植物生长的基础。Lumencor的固...

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  • 2024
    6.3

    xiRAY相机被选为第1台11mpix微型ct扫描仪

    xiRAY相机被选为世jie上第1台11mpix微型ct扫描仪一.简介昊量光电推出的xiRAY11是一款新型大画幅制冷X射线数码相机,可在不影响样品量的情况下实现高空间分辨率。计算机群集选项支持快速扫描和三维重建,在大多数情况下,该功能需要使用多台电脑并行重建扫描数据集的时间少于扫描持续时间。横截面图像以高达8kx8k像素的各种格式生成。此款相机被选中-在面对面测试中击败了其他X射线相机竞争对手在一场面对面的比赛中,微型CT扫描仪制造商SkyScan(现为布鲁克)选择了我们的...

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  • 2024
    6.3

    如何使用Moku进行阻抗测量?

    如何使用Moku进行阻抗测量?频率响应分析仪Moku的频率响应分析仪(FRA)在Moku输出上驱动扫描正弦波,并同时测量Moku输入接口接收到的信号幅度(或功率)。FRA可以测量系统或被测设备(DUT)的传递函数,从而创建幅度和相位与频率的关系图,通常称为波特图。图1波特图示例为了测量被测设备的阻抗(Zdut),我们需要了解FRA的功率图。FRA图使用dbm或相对于一毫瓦(1mW)的分贝为单位;在这种情况下,一个方便的计量单位。定义为:MokuFRA扫描正弦输出可以以伏特(峰...

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  • 2024
    5.22

    揭秘光束之舞:光束分析仪的奥秘与魅力

    在现代光学领域,光束分析仪无疑是一位重要的舞者,它以精准的数据和直观的图像,向我们揭示了光束的微妙世界。这不仅仅是一台仪器,更是一位探索者,带领我们领略光束之舞的精彩。光束分析仪,顾名思义,是对光束进行分析和测量的设备。它能够对光束的强度、方向、分布等参数进行精确测量,为光学研究、设计、生产提供了强有力的支持。在光学研究领域,光束分析仪发挥着至关重要的作用。科学家们通过它,可以深入研究光束的传播特性、干涉现象、衍射规律等,从而推动光学理论的发展。同时,在光学设计和生产领域,光...

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  • 2024
    5.14

    超低噪声光学频率梳的载波包络偏频稳定测试

    超低噪声光学频率梳的载波包络偏频稳定测试介绍OCTavePhotonics的光频梳偏频锁定模块COSMO提供了一种紧凑的方法来检测激光频率梳的载波包络偏移频率fceo。为了评估锁定fceo的稳定性,我们使用一个COSMO模块来测量MenloSystem公司的超低噪声光学频率梳的fceo,并使用反馈环外的第二个COSMO来验证锁相环的保真度。我们发现两个COSMO模块的信号在锁定1秒时优于1x10-17,在1000秒时优于1x10-20。这种高稳定性水平与成熟的f-2f干涉测量...

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  • 2024
    5.14

    下一代通讯光纤:光子晶体光纤

    下一代通讯光纤:光子晶体光纤光子晶体光纤(photoniccrystalFiber,简称PCF)是一种具有特殊孔隙结构的光纤,通过对光纤的结构进行精确控制,实现对光学性能和传输特性的优化。PCF的du特设计和优势使其在光通信、光学传感、激光器技术等领域展现出广阔的应用前景。一、PCF的原理PCF的原理基于光子晶体的概念,光子晶体是一种具有周期性介质折射率分布的材料。在PCF中,通过在光纤芯部和包层之间引入微米尺度的周期性孔隙结构,形成了具有特殊光学特性的通道。这些孔隙可以采用...

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  • 2024
    5.14

    激光指向稳定在光刻系统应用中的关键作用,及其优化方案!

    激光指向稳定在光刻系统应用中的关键作用,及其优化方案!光刻是半导体制造工艺中的核心之一,极紫外光刻技术作为新一代光刻技术也处于快速发展阶段。其基本原理是利用光致抗蚀剂(或称光刻胶)感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点,将掩模板上的图形刻制到被加工表面上。光刻半导体芯片二氧化硅的主要步骤包括涂布光致抗蚀剂、套准掩模板并曝光、用显影液溶解未感光的光致抗蚀剂层、用腐蚀液溶解掉无光致抗蚀剂保护的二氧化硅层,以及去除已感光的光致抗蚀剂层。在光刻系统中,激光的指向稳定非常重要,会直接影响...

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